Gallik asidin fotokatalitik giderimi: Düşük moleküler ağırlıklı bileşenler kullanılarak doğal organik madde modellemesi

Simple item page
dc.contributor.authorUyguner-Demirel, Ceyda Senem
dc.date.accessioned2020-09-10T10:40:09Z
dc.date.available2020-09-10T10:40:09Z
dc.date.issued2019-05-02
dc.description.abstractHümik asitler gibi, doğal polimerlerin yapısal alt birimlerinden birini temsil eden gallik asitler, sucul sistemlerde doğal organik madde bozunmasının bir ürünü olarak kabul edilmektedir. Bu çalışmada, hümik maddelere yapısal olarak benzerlik gösteren küçük moleküler ağırlıklı gallik asit, model madde olarak değerlendirilmiştir. Gallik asidin fotokatalitik oksidasyonu, i) başlangıç madde konsantrasyonu, ii) fotokatalizör konsantrasyonu ve iii) fotokatalizör tipi gibi temel operasyon parametrelerinin etkisi araştırılarak incelenmiştir. Fotokatalizör olarak TiO2 Degussa P-25, Hombikat UV-100, PC-10, PC-50 ve PC-105 kullanılmıştır. Gallik asidin zamana karşı fotokatalitik olarak giderimi, UV-vis ve floresans spektroskopik parametreler ve toplam organik karbon ölçümleri ile takip edilmiş ve birinci mertebeden kinetik model kullanılarak açıklanmıştır. Gallik asidin kinetik verilerinin, ana molekül olan hümik asidin fotokatalitik bozunma çalışmalarıyla ilişkilendirilebilmesi için karşılaştırmalı bir yaklaşım izlenmiştir. Gallik asidin farklı fotokatalizörler üzerindeki ön adsorpsiyon sonuçları, gallik asidin fotokatalitik giderim hızı ile doğru orantılı olarak ilişkilendirmiştir. Gallik asit giderim hız sabitlerinin UV265 cinsinden karşılaştırılması; P-25> PC-10> UV-100> PC-105> PC-50 şekilinde sıralanırken, toplam organik karbon giderimi için hız sabitleri değişimi; PC-105> UV 100> PC-10> P-25> PC-50 olarak bulunmuştur. Test edilen çeşitli fotokatalizörler arasında PC-105' in, gallik asit giderimi için oldukça aktif olduğu bulunmuştur. PC-10 ve PC-50' nin küçük yüzey alanları göz önünde bulundurulduğunda, bu fotokatalizörlerin varlığında nispeten düşük giderim hızları elde edilmiştir.tr_TR
dc.description.abstractGallic acid is regarded as a product of natural organic matter decay in aquatic systems representing one of the structural subunits of natural polymers such as humic acids. In this work, the photocatalytic oxidation of gallic acid was investigated focusing on the effects of the major operating factors namely; i) initial substrate concentration, ii) photocatalyst loading and iii) photocatalyst type. The photocatalysts used were TiO2 Degussa P-25, Hombikat UV-100, Millennium PC-10, Millennium PC-50 and Millennium PC-105. The photocatalytic removal of gallic acid with respect to irradiation time was followed by UV-vis and fluorescence spectroscopy as well as total organic carbon (TOC) measurements. The removal of photocatalytic oxidation in terms of absorbance measurements at 265 nm (UV265) and TOC was explained using pseudo first order kinetic model. A comparative approach was followed to relate data to previous photocatalytic degradation studies of the parent molecule; humic acids. The initial adsorption of gallic acid on different photocatalysts correlated well with the initial removal rates of gallic acid. The comparison of the intrinsic rates in terms of UV265 could be ordered as; P-25>PC-10>UV100>PC-105>PC-50 whereas for TOC it could be ordered as follows; PC-105>UV-100>PC-10> P-25>PC-50. Among the various photocatalysts tested, PC-105 was found to be highly active for gallic acid removal. Considering the lower surface areas of PC-10 and PC-50, relatively lower initial rates were attained.en_US
dc.identifier.citationUyguner-Demirel, C. S. (2019). "Gallik asidin fotokatalitik giderimi: Düşük moleküler ağırlıklı bileşenler kullanılarak doğal organik madde modellemesi". Uludağ Üniversitesi Mühendislik Fakültesi Dergisi, 24(2), 595-608.tr_TR
dc.identifier.endpage608tr_TR
dc.identifier.issn2148-4147
dc.identifier.issn2148-4155
dc.identifier.issue2tr_TR
dc.identifier.startpage595tr_TR
dc.identifier.urihttps://dergipark.org.tr/tr/download/article-file/820089
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11452/12618
dc.identifier.volume24tr_TR
dc.language.isotrtr_TR
dc.publisherBursa Uludağ Üniversitesitr_TR
dc.relation.journalUludağ Üniversitesi Mühendislik Dergisi / Uludağ University Journal of The Faculty of Engineeringtr_TR
dc.relation.publicationcategoryMakale - Uluslararası Hakemli Dergitr_TR
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen_US
dc.subjectGallik asittr_TR
dc.subjectDoğal organik maddetr_TR
dc.subjectKinetiktr_TR
dc.subjectFotokatalitik oksidasyontr_TR
dc.subjectTiO2tr_TR
dc.subjectGallic aciden_US
dc.subjectKineticsen_US
dc.subjectNatural organic matteren_US
dc.subjectPhotocatalytic oxidationen_US
dc.titleGallik asidin fotokatalitik giderimi: Düşük moleküler ağırlıklı bileşenler kullanılarak doğal organik madde modellemesitr_TR
dc.title.alternativePhotocatalytic degradation of gallic acid: Modelling of nom using a lower molecular weight compounden_US
dc.typeArticleen_US

Files

Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
24_2_42.pdf
Size:
916.37 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Download
License bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Name:
license.txt
Size:
1.71 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description:
Download

Collections

2019 Cilt 24 Sayı 2